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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的Z簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發附件，具有濺射和蒸發兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜，也可以用蒸發的方式得到碳或其他金屬單質的薄膜。本機能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導體材料實驗電極的制作，也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的Z簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶，旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜。

OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發鍍膜（CSS）爐是一款快速蒸發管式爐，專門用于PVD或CSS法制作薄膜；其爐管外徑為11″，爐管內載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片；加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體頂端和底部，升溫速率高達20℃/s ；溫控系統采用PID30段程序化控制，控溫精度為±1℃，并且儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導出。

GSL-1800X-ZF2蒸發鍍膜儀主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。