產品型號

VTC-600-3HD

安裝條件

1、工作臺需要：尺寸 L1300mm×W750mm×H700mm，承重 200kg 以上。

2、水：需求：隨機標配 KJ-5000 自循環冷水機（加注純凈水或者去離子水）。

3、氣：需氬氣（純度≥99.99%），自備氬氣瓶（自帶?6mm 雙卡套接頭）及減壓閥。

4、通風裝置：使用現場需通風（必要時可自行加裝換氣裝置）。

5、供電源：單相：AC220V 50Hz 國標 10A 插座，必須有良好接地，前端需加裝 16A 空氣開關。

6、現場環境：要求：溫度 25℃±15℃，濕度 55%Rh±10%Rh 以下，干燥無塵，無易燃易爆氣體。

主要參數

真

空

系

統

真空室尺寸

φ295×高 265mm

備注說明

真空泵組

分子泵：Hipace80 渦輪泵

前級泵：MVP015-2DC 隔膜泵

浦發（Pfeiffer）

本底真空度

5.0E-3Pa(5.0E-5hPa)

沉積前基礎真空要求

極限真空度

5.0E-4Pa(5.0E-6hPa)

受現場環境等因素影響

工作壓力

0.1~5Pa(0.001~0.05hPa)

氬氣為主，反應氣體比例添加

抽速

前級泵：1 m3/h

分子泵：67 l/s

影響抽真空時間

電

源

配

置

濺射電源

類型/數量

DC（直流）：2臺

RF（射頻）：1臺

DC：金屬靶 RF：絕緣靶

（搭配電源類型可選配）

輸出功率

范圍

DC：0~500W

RF：0~300W

功率輸出模式

MAX輸出功率

匹配阻抗

50Ω

確保功率傳輸效率

氣

體

控

制

工作氣體

標配：氬氣（Ar）

建議使用：Ar 純度 99.999%

氬氣流量

(2路輸入）

1路：1~100sccm

1路：1~200sccm

注：如需要通入其它類型保

護氣體可定制

流量計精度

±1%F.S.

/

旋

轉

樣

品

臺

樣品臺尺寸

Φ132mm

≈5.2 英寸

樣品臺轉速

1~20rpm

提升膜厚均勻性

加熱溫度

RT~500℃

樣品臺表面溫度值

控溫精度

±1℃

/

磁

控

濺

射

靶

磁控靶數量

3個

可獨立、可同時使用

靶材尺寸

φ2寸 厚度0.1-5mm

靶材材質不同厚度有所不同

靶基距

85~115mm可調

當距離↑增大、→厚膜均勻

性↑增高，沉積速率↓下降。

冷卻方式

水冷

冷卻水循環靶頭降溫

沉

積

性

能

與

其

它

參

數

厚膜均勻性

±5%（φ100mm基片）

靶基距和轉速優化關鍵

極限膜厚

10nm~10um

過厚易應力開裂

輸入功率

MAX:主機 500W/射頻電源 1100W/直流電源 750W

注：主機、射頻電源、直流電

源及膜厚儀均為獨立供電！

輸入電源

單相： AC220V 50/60Hz

主機尺寸

600mm×750mm×900mm

注：開蓋高度為1050mm

整機尺寸

1300m×750mm×900mm

注：開蓋高度為1050mm

整機重量

160kg

注：不含水冷機組