VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

簡要描述：VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點

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更新時間：2024-01-17
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品牌	其他品牌	價格區間	面議
產地類別	國產	應用領域	鋼鐵/金屬,綜合

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發的一款高真空鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，且具有體積小便于操作的優點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設備。
1、配置三個靶槍，兩個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。

產品名稱	VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀
產品型號	VTC-600-3HD-1000
主要參數	1、輸入電源：220V/50Hz 2、濺射靶數量：3 3、腔體內徑：?300mm 4、靶槍冷卻方式：水冷 5、極限真空度：7.4E-5pa 6、真空室規格：Φ300×330 mm 7、真空系統：VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 8、恢復真空：系統從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統短時間暴露大氣） 9、充氣系統：2路質量流量計（１路氬氣100scc、1路氬氣200scc）特殊氣體可定制 10、濺射靶規格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 11、樣品臺：Φ70mm//可加熱（室溫～1000℃）
產品規格	主機尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm

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